据DigiTimes报道，ASML计划推出特供版DUV光刻机，以规避荷兰的新销售许可禁令，并面向中国市场提供该设备。
如果该项目继续进行，中芯国际、华虹等中国半导体企业将能够继续使用荷兰设备来生产28纳米及更成熟工艺的芯片。
据消息称，这款特供版DUV光刻机是基于Twinscan NXT:1980Di光刻系统改造而来的，而1980Di是10年前推出的旧型号，不在禁令范围内。
1980Di是ASML目前效率较低的光刻机型，支持NA 1.35光学器件，分辨率可以达到小于38纳米，理论上可以支持7纳米工艺。
大多数晶圆厂使用1980Di光刻机主要生产14纳米及以上工艺的芯片，很少用于生产7纳米芯片。
