据南大光电2022年年度报告显示，报告期，公司实现营业收入158,123万元，同比增长60.62%；归属于上市公司股东的净利润18,673万元，同比增长37.07%；归属于上市公司股东的扣除非经常性损益后的净利润12,563万元，同比增长78.39%。
南大光电表示，公司在2022年围绕MO源、前驱体、电子特气和光刻胶及配套材料等主营业务，打造高效增长曲线。公司主要产品发货量、销售额和利润在2021年创新高的基础上，实现业绩新突破。其中，光刻胶产业化有所进展——
◆ ArF光刻胶及配套材料项目所需的光刻车间和生产线已建成，其中主要先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机已经完成安装并投入使用，搭建了专业用于ArF光刻胶产品开发的检测评估平台。
◆ 加快了ArF光刻胶产业化步伐。目前产品验证工作正在多家下游主要客户稳步推进，且针对同一客户的不同需求开发了不同的产品，以满足下游客户的多样化需求。
此外，公司正围绕重点业务、重点技术引进人才，特别是从国际先进半导体公司引进核心技术人才，强化公司在光刻领域和先进前驱体材料领域的人才和技术储备。
ArF光刻胶已建成25吨产线，多款产品验证中
近年来，随着半导体行业的蓬勃发展，尤其是下游晶圆厂产能扩建带来的的庞大需求，光刻胶市场需求保持了良好的增长态势。从半导体光刻胶细分市场分析，ArF干式和浸没式光刻胶已成为集成电路制造领域需求量最大的光刻胶产品之一。
据相关研究机构数据，预计至2025年ArF干式及浸没式光刻胶仍能占据45%的市场份额，规模预计到2025达到10.72亿美元，2020-2025复合增长率为3.5%。
在2022年年报中，南大光电认为：尽管光刻胶市场保持了良好的增长趋势，但以ArF光刻胶为代表的高端光刻胶市场长期为国外巨头所垄断，对中国芯片制造造成“卡脖子”风险。同时由于高端光刻胶的保质期很短（通常只有 6 个月左右甚至更短），一旦遇到贸易冲突或自然灾害，国内集成电路产业势必面临芯片企业短期内全面停产的严重不利局面。因此，尽快实现高档光刻胶材料的全面国产化和产业化具有十分重要的战略意义和经济价值，自主可控需求愈发迫切，从国家政策到市场环境，都将为高端光刻胶发展提供强有力支撑。
在此产业形势下，南大光电的光刻胶技术研发始终坚持完全自主化路线，光刻胶研发中心具备了研制功能单体、功能树脂、光敏剂等光刻胶材料的能力，能够实现从光刻胶原材料到光刻胶产品及配套材料的全部自主化。
公司正在自主研发和产业化的ArF光刻胶（包含干式及浸没式），将实现高端光刻胶的进口替代，提升国家关键材料领域自主可控水平，解决“卡脖子”技术难题。
南大光电表示：2017及2018年，公司分别获得国家02专项“高分辨率光刻胶与先进封装光刻胶产品关键技术研发项目”和“先进光刻胶开发和产业化项目”的正式立项。经过几年的组织建设和技术攻关，上述项目分别于2020年和2021年通过国家02专项专家组的验收。
控股子公司宁波南大光电负责组织实施“ArF光刻胶开发和产业化项目”，研发的产品成为国内通过客户验证的第一只国产ArF光刻胶，标志着国产先进光刻胶产业化取得关键性的突破。
目前，公司产品已在下游客户存储芯片50nm和逻辑芯片55nm技术节点的产品上通过认证，同时多款产品正在多家客户进行认证，持续推动光刻胶及配套材料产品的研发、验证和产业化。
近期，南大光电也在投资者互动平台先后表示公司ArF光刻胶的送样产品均由自建产线产出。ArF光刻胶已建成25吨的生产线，尚未规模量产。
来源：势银膜链
